金屬-氧化層-半導體場效應晶體管(MOSFET)是集成電路設計中的基本單元,它的電路符號和器件結構如圖1所示。典型n溝道MOS器件具有4個電極,并連接不同的電壓偏置。一般情況下源極和襯底極接低電位,比如接地。不工作時器件處于截止狀態,此時器件的源極和漏極之間沒有導電通道,相當于開關的斷開狀態。當柵極加上一個大于Vgs(th) 的正電壓后,柵極氧化層下方的p型襯底表面會產生反型層, 即導通溝道。溝道連通了器件源極和漏極,此時NMOS相應的處于了導通狀態。柵極電壓越高,導通越充分。
中高壓功率MOSFET通常采用垂直溝道結構,如圖2所示,器件的漏極在芯片底部,源極在芯片頂部,整個器件呈垂直結構放置。這種結構被稱為Vertical Double-diffusion MOS (VDMOS)。從結構上看VDMOS的漏極從原來的表面位置移到了器件的底部,漏極電流也相應從器件的底部流到器件的表面,變成了垂直型器件。漏極電流與溝道之間的區域是漂移區,是高壓功率器件用來耐壓的主要部分。漂移區越厚且漂移區電阻率越低,則耐壓越高,而與此同時器件的導通電阻相應的也就越高。這是因為VDMOS的Rdson 與BVdss的2~2.5次方成正比。即公式1:
Rdson = a* BV2~2.5
超級結MOSFET可以打破這個限制,其基本結構如圖3所示。它和VDMOS相比最大的區別就是在p-body下方加入了p柱,使漂移區中出現了交替的pn結結構。利用相鄰的pn柱之間相互耗盡的原理,將漂移區的濃度可以提升,使得器件導通時電阻率降低。而在關態時,p柱和n柱之間可以相互耗盡,使耗盡區盡量擴大,維持了較高的耐壓,由此打破了公式1的硅極限,使導通電阻與擊穿電壓達到近似線性的關系,顯著提高了器件性能。
圖3 SJ VDMOS示意圖
相對于普通VDMOS器件,超級結功率器件的速度更快,FOM更低,但是也會帶來其他的一些負面問題,比如高di/dt & dv/dt造成的柵極振蕩及EMI問題。因此,超級結的設計十分講究,設計不當則容易導致芯片的震蕩而使器件出現EMI超標的問題。